Вакуумные

1. ПЛАЗМОХИМИЧЕСКИЕ ТЕХНОЛОГИИ реализуемые на установках «Caroline»
   • Скоростное травление монокристаллического кремния с хорошей анизотропией и селективностью.
   • Скоростное травление монокристаллического пьезокварца на большую глубину с хорошей анизотропией и селективностью. Достигнута глубина травления 250 мкм через маску толщиной 6 мкм.
   • Положительный результат при травлении ПЗС матриц без привнесения заряда.
   • Субмикронное скоростное травление диэлектриков (SiO₂, Si₃N₄) со скоростями порядка 1 мкм/мин, включая пьезокварцевые подложки на глубину более 100 мкм.
   • Травление металлов, в том числе и чисто ионное травление золота, меди и других металлов, не образующих летучих соединений. Травление производилось через резистивные и металлические маски (скорость травления по золоту более 0,2 мкм/мин.)
   • Травление арсенида и нитрида галлия в производстве полупроводниковых лазеров и светодиодов, в том числе областей под омические контакты.
   • Травление полиимида с высокими скоростями, снятие резиста.
   • Обработка в плазме водорода и в атомарном водороде.
   • Осаждение диэлектриков с хорошим качеством и равномерностью (SiO₂, Si₃N₄), из моносилана с кислородом и азотом при «комнатных» температурах подложки.
2. НАПЫЛИТЕЛЬНЫЕ ТЕХНОЛОГИИ и ТЕХНОЛОГИИ ИОННОГО - ЛУЧЕВОГО ТРАВЛЕНИЯ реализуемые на установках «Caroline»
   • Высокоскоростное напыление металлов с гарантированной адгезией на подложки из:
     • Керамики
     • Металла
     • Арсенид галлия
     • Кремния и т.д. и т.п.
   • Реактивное напыление материалов, нитридов, оксидов, карбо-нитридов, сплавов с высокой адгезией, равномерностью и повторяемостью от процесса к процессу. Например: напыление нитрида кремния из кремниевой мишени из неё же напыление двуокиси кремния, нитрида алюминия, титана, циркония, хрома и пр.
   • Термическое напыление материалов из стандартных испарителей в автоматическом режиме со значительным увеличением ресурса испарителей.
   • Ионное напыление любых материалов с помощью автономного ионного источника.
   • Ионная очистка с помощью автономных ионных источников направленного действия.
   • Ионное азотирование перед нанесением упрочняющих покрытий.
   • Ионно-лучевое травление с помощью автономных ионных источников направленного действия.

Более подробно ознакомиться с представленными технологиями Вы можете в книге «Вакуумная технология и оборудование для нанесения и травления плёнок» из серии «Мир материалов и технологий», авторы Берлин Е.В., Двинин С.А., Сейдман Л.А. Изд. Техносфера, 2007 год., ISBN: 978-5-94836-134-5