 |
Магнетрон 787 БПКЖ.528.00.00-01
Магнетрон 787 используется в вакуумном оборудовании для напыления металлов (алюминий, титан, медь и др.) на различные объекты |
 |
Магнетрон 479 БПКЖ.675.00.00-02
Магнетрон 479 используется в вакуумном оборудовании для напыления металлов (алюминий, титан, медь и др.) на различные объекты. |
 |
Магнетрон Д100 БПКЖ.737.02.00.00.00-01
Магнетроны Д100 применяется для нанесения тонких пленок и покрытий из любых сплавов, металлов и полупроводниковых материалов без нарушения стехиометрического состава. Действуют они по принципу повышения плотности плазмы газового разряда в скрещенных магнитном и электрическом полях. |
 |
Магнетрон 787 H УКРД.768.02.00.00.00
Магнетрон 787Н используется в вакуумном оборудовании для напыления металлов (алюминий, титан, медь и др.) на различные объекты. |
 |
Магнетрон 479 РС БПКЖ.676.00.00-02
Магнетрон 479 РС предназначается для напыление резистивных материалов на объекты. |
 |
Магнетрон 479 Н БПКЖ.681.00.00-04
Магнетрон 479 Н предназначается для напыления магнитных материалов типа никель, хром и др. на объекты. |
 |
Магнетрон 787 РС БПКЖ.704.00.00-01
Магнетрон 787 РС предназначается для напыление резистивных материалов на объекты. |
 |
Магнетрон Д100 УКРД.755.00.00.00.00
Магнетроны Д100 применяется для нанесения тонких пленок и покрытий из любых сплавов, металлов и полупроводниковых материалов тонких пленок без нарушения стехиометрического состава. Действуют они по принципу повышения плотности плазмы газового разряда в скрещенных магнитном и электрическом поле. |
 |
Магнетрон 787 БПКЖ.528.00.00-01
Магнетрон 787 используется для напыления тонких пленок металлов и покрытий металлов (алюминий, титан, медь и др.) на объекты. |
 |
Испаритель термический УКРД.771.01.00.00.00
Термическое испарение представляет собой нагрев материала до температуры заметного испарения в специальном испарителе. В процессе происходит конденсация паров испаряемого материала в виде тонкой пленки на расположенные на некотором расстоянии от испарителя поверхности подложек. |
 |
Источник ионов 196 УКРД.769.02.00.00.00
Предназначается для предварительной очистки изделий перед напылением в вакуумных камерах и для ионного ассистирования стимулирования в процессе происходящего процесса напыления, а также для травления тонких слоев материалов методом ионно-химического травления (Элегаз, Фреоны и др.) или методом ионного распыления (Аргон). Не имеет в процессе эксплуатации расходуемых элементов, работает с газами произвольного состава. |
 |
Источник ионов 400 БПКЖ.648.00.00
Предназначается для предварительной очистки изделий перед напылением в вакуумных камерах и для ионного ассистирования в процессе происходящего напыления, а также для травления тонких слоев материалов методом ионно-химического травления (Элегаз, Фреоны и др.) или методом ионного распыления (Аргон). Не имеет в процессе эксплуатации расходуемых элементов, работает с газами произвольного состава. |
 |
Источник ионов 696 УКРД.769.04.00.00.00
Предназначается для предварительной очистки изделий перед напылением в вакуумных камерах и для ионного ассистирования, стимулирования процесса напыления, а также для травления тонких слоев материалов методом ионно-химического травления (Элегаз, Фреоны и др.) или методом ионного распыления (Аргон). Не имеет в процессе эксплуатации расходуемых элементов, работает с газами произвольного состава. |
 |
Генератор плазмы
TCP-антенна применяется в оборудовании очистки, плазменно-стимулированного нанесения пленок и плазмохимического травления для образования генерирования индукционной плазмы высокой уровня плотности. |
