Главная Продукция Российское оборудование Вакуумное оборудование Вакуумная установка M-Ray V2S

Продукция

Российское оборудование

Зарубежное оборудование

Каталог оборудования АО НПП ЭСТО

Каталог продукции Fujikin

Презентация оборудования KLOE

Вакуумная установка M-Ray V2S

НАЗНАЧЕНИЕ:

Вакуумно-технологическая автоматизированная установка M-Ray V2S предназначена для двустороннего магнетронного напыления на керамические, кремниевые и любые плоские (толщина не более 30 мм.) подложки размером до Ø150 мм. (максимальная плоскость обрабатываемых деталей 150×350 мм.)

Установка комплектуется магнетронами для распыления любых материалов, например, резистивные сплавы Cu, Cr, Ni, Al и т.п.

УСТАНОВКА ОБЕСПЕЧИВАЕТ:

очистку поверхности изделий перед напылением с целью улучшения адгезии напыляемых слоев с помощью ионного источника постоянного тока (при необходимости два ионных источника изнутри и снаружи барабана);
нагрев изделий до заданной температуры, контроль и поддержание температуры в процессе напыления слоев;
стабилизацию заданного расхода технологических газов по трем каналам и контроль расхода газа по каждому каналу;
отпыливание мишени любого из одного - восьми магнетронов на управляемую заслонку;
вертикальное расположение мишеней на магнетронах и изделий на вращающемся барабане;
автоматическое выполнение цикла откачки рабочей камеры от атмосферы до стартового вакуума;
автоматическое окончание цикла очистки изделий по заданному времени;
контроль и автоматическое окончание напыления резистивных и металлических пленок по заданному времени или по заданному сопротивлению свидетеля;
размещение изделий на легко снимаемых с барабана носителях с целью сокращения времени загрузки и выгрузки.

Вакуумная камера установки снабжена прямоугольной дверью большого размера для удобства загрузки-выгрузки носителей. Для обслуживания камеры она поднимается над плитой-основанием с помощью гидроподъемника.

Установка в предельном варианте комплектации имеет два комплекта блоков питания магнетрона и ионного источника и блок подачи смещения на барабан-подложкодержатель.

Возможно размещение нестандартных узлов нанесения или травления пленок, дополнительных нагревателей, измерителей и т.д., если позволяют габариты камеры.

Возможно применение планетарного механизма вращения цилиндрических подложек (ось вращения вертикальная) с диаметром изделий до 100 мм.

УСЛОВИЯ ЭКСПЛУАТАЦИИ:

Установка предназначена для работы при температуре +15°С÷30 °С относительно влажности 65 ±15%, атмосферном давлении 9,9×104 Па (750 ±30мм.рт.ст.).

Питание установки осуществляется от трехфазной четырехпроводной сети с нулевым проводом переменного тока напряжением 380 В ±10%, частотой 50 Гц. Максимальный потребляемый установкой ток по фазам не более 50 А.

Установка обеспечивает работу при подаче в нее:

холодной воды с температурой 5°С÷20°С под давлением (4÷5 кгс/см2) с расходом 0,6 м3/час;
кислорода газообразного под давлением 1÷1,5 кг/см2, аргона газообразного марки «особо чистый» под давлением 1÷1,5 кг/см2, азота газообразного марки «особо чистый» под давлением 1÷1,5 кг/см2.

Необходимо подвести к установке линию слива охлаждающей воды диаметром не менее 20 мм.

Реализована автономная замкнутая система водоснабжения с температурой выше точки росы при любых режимах эксплуатации и охлаждением от оборотной воды предприятия

Установка поставляется с автоматизированной управляющей и тестовой технологической программами либо на лабораторной базе Исполнителя под технологию Заказчика может быть произведена отработка технологии с последующим переносом её на заказанную установку .

На установке реализованы следующие технологии:

напыление РС-3710 с поверхностным сопротивлением 20÷1000 Ом/□ и более;
напыление нитрида тантала с поверхностным сопротивлением 20÷150 Ом/□ и ТКС менее 5×10-5;
напыление толстых (до 15 мкм.и более) слоев металла;
напыление последовательных слоев РС и металла в одном цикле;
напыление двуокиси и нитрида кремния из кремниевой мишени.

Установка поставляется с автоматизированной управляющей и тестовой технологической программами либо на лабораторной базе Исполнителя под технолгию Заказчика может быть произведена отработка технологии с последующим переносом ее на заказанную установку.