Продукция
- Нестандартное оборудование
- Оборудование для жидких процессов литографии
- Лазерное оборудование
- Вакуумное оборудование
- Сборочное оборудование
- Оборудование для оптической литографии
- Сборочное оборудование и материалы
- Установки для жидких процессов литографии
- Устройства для измерения пластин и толщины пленок
- Оборудование для оптической литографии
- Оборудование для высшей степени очистки газов
- Вакуумное оборудование
- Автоматы для герметизации корпусов
- Установки для изготовления и обработки подложек
- Оборудование для термических процессов
- Ионные имплантеры
- Бинокулярные и стереоскопические микроскопы
- ВЧ-генераторы
- Аппараты для атомно-слоевого осаждения
- Промышленные компрессоры
Российское оборудование
Зарубежное оборудование
Вакуумная установка Caroline D12С
Отправить заявку
Вакуумная установка Caroline D12С
НАЗНАЧЕНИЕ:
Установка «Caroline D12С» – полностью автоматизированная вакуумно-технологическая установка предназначена для магнетронного напыления на керамические, кремниевые и любые плоские (толщина не более 30 мм.) подложки до 150 мм (максимальная плоскость обрабатываемых деталей 150×650 мм).
Установка комплектуется магнетронами от одного до четырех штук для распыления любых материалов (Cu, Cr, Ni, Al и т.п.)
УСТАНОВКА ОБЕСПЕЧИВАЕТ:
- очистку поверхности изделий перед напылением с целью улучшения адгезии напыляемых слоев с помощью ионного источника постоянного тока;
- нагрев изделий до заданной температуры, контроль и поддержание температуры в процессе напыления слоев;
- стабилизацию заданного расхода технологических газов по трем каналам и контроль расхода газа по каждому каналу;
- отпыливание мишени любого из одного - четырех магнетронов на управляемую заслонку;
- вертикальное расположение мишеней на магнетронах и изделий на вращающемся барабане;
- автоматическое выполнение цикла откачки рабочей камеры от атмосферы до стартового вакуума;
- автоматическое окончание цикла очистки изделий по заданному времени;
- контроль и автоматическое окончание напыления резистивных и металлических пленок по заданному времени или по заданному сопротивлению свидетеля;
- размещение изделий на легко снимаемых с барабана носителях с целью сокращения времени загрузки и выгрузки.
Вакуумная камера установки снабжена прямоугольной дверью большого размера для удобства загрузки-выгрузки носителей. Для обслуживания камеры она поднимается над плитой – основанием с помощью гидроподъемника.
Установка в предельном варианте комплектации имеет второй блок питания магнетрона и блок подачи смещения на барабан-подложкодержатель.
УСЛОВИЯ ЭКСПЛУАТАЦИИ:
Установка предназначена для работы при температуре +15oС÷30 oС относительно влажности 65 ±15%, атмосферном давлении 9,9×104 Па (750 ±30 мм.рт.ст.).
Питание установки осуществляется от трехфазной, четырехпроводной сети с нулевым проводом переменного тока напряжением 380 В ±10%, частотой 50 Гц. Максимальный потребляемый установкой ток по фазам не более 50 А.
Установка обеспечивает работу при подаче в нее:
- холодной воды с температурой +5oС÷+20 oС под давлением (4÷5 кгс/см2) с расходом 0,6 м3/час.
- кислорода газообразного под давлением 1÷1,5 кг/см2, аргона газообразного марки «особо чистый» под давлением 1÷1,5 кг/см2, азота газообразного марки «особо чистый» под давлением 1÷1,5 кг/см2.
Необходимо подвести к установке линию слива охлаждающей воды диаметром не менее 20 мм.
Установка поставляется с автоматизированной управляющей и тестовой технологической программами либо на лабораторной базе Исполнителя под технологию Заказчика может быть произведена отработка технологии с последующим переносом её на заказанную установку.
На установке реализованы следующие технологии:
- напыление РС–3710 с поверхностным сопротивлением 20÷1000 Ом/□ и более;
- напыление нитрида тантала с поверхностным сопротивлением 20÷150 Ом/□ и ТКС менее 5×10-5;
- напыление толстых (до 15 мкм. и более) слоев металла (Al, Cu и т.д.);
- напыление последовательных слоев РС и металла в одном цикле;
- напыление двуокиси кремния и нитрида кремния из кремниевой мишени.
