Главная Продукция Зарубежное оборудование Вакуумное оборудование Вакуумная испарительная установка ei-5

Продукция

Российское оборудование

Зарубежное оборудование

Каталог продукции Fujikin

Презентация оборудования KLOE

Каталог оборудования ЗАО «НПП «ЭСТО»

Зарубежные партнеры ЗАО «НПП «ЭСТО»

Вакуумная испарительная установка ei-5

Испарительная установка

Это системы высокого вакуумного испарения пакетного типа для осаждения металла и оксида на подложке. В панели управления этой системы имеется встроенная функция контроля, которая реализует автоматизированный вакуум и процесс осаждения, рекомендуется для R&D применений, а также для мелкосерийного производства.

Малая занимаемая площадь
Простота инсталляции и эксплуатации
Простое управление и высокая производительность
Простота обслуживания

Характеристики:

Поддержка различных источников испарения (EB, RH, EB + RH и т.д.).
Держатели подложек соответствующие каждому процессу (планетарные, спутниковые и т.д.).
Обработка различных подложек; размеры подложек от 2 до 6 дюймов, прямоугольные подложки, Si, соединений, стекла и керамики.
Отображение и управление на сенсорном ЖК-мониторе
Улучшенная система управления и функционалом (рецепты, регистрация данных, функция сервисной помощи).

Применение:

Силовые приборы
LED, LD и высокоскоростные устройства
Различные R & D
Другие общие электронные устройства

Типы держателей

	Тип	Размер, мм	Типы держателя	2”	3”	4”	5”	6”	8”
Ei-501	Планетарный	D550/R395	Плита	213	108	60	39	24
	Планетарный	D550/R395	Вставка	204	105	57	39	24	15
	Вращательный	D700/R700	Плита
	Вращательный	D700/R700	Вставка	93	38	26		9

Планетарный Вращательный

Спецификация и опции.

Спецификация

Источник испарения (ЕВ источник)

Для металлов	40cc × 4pockets （ EGL-35M ) : 10kW P/S 40cc × 6pockets （ EGL-406M ) : 10kW P/S 110cc × 4pockets （ EGL-80M ) : 16kW P/S 110cc × 1pockets （ EGL-110M ) : 16kW P/S etc.
Для оксидов	40cc × 4pockets （ EGO-40M ）： 10kW P/S

Опции.

Типы газов	Ar, O2
Источник испарения	2 электронные пушки
Ионная пушка	Mark 1 (производство Veeco)

Спецификация.

Подложки Материал Размер	Si, GaAs, GaN, Стекло, керамика и др. d50 – 200мм, другие различные формы
2. Вакуумная система Главный насос Предельное давление Время откачки	Крионасос 3.0×10-5 Па или лучше В течение 20min to 3.0×10-4 Па
3. Напыление Источник испарения Держатель подложек Однородность плёнки по толщине SS расстояние	Электронная пушка (10кВт), R/H / Source shutter Вращательный / Планетарный d50 - 200mm. ±5% или лучше 680мм
4. Нагрев подложек	Инфракрасная лампа нагрева. Tmax = 350 ⁰C
5. Управление	Сенсорная панель управления PC & PLC
6. Подключение Электричество Водяное охлаждение Воздух N2 газ Заземление	AC200V, d3, 50/60 Hz, 50~60kVA 27 л/мин 0.4 ～0.7 MПa（с регулятором) 0.05～0.15 MПa для VENT регенерации крионасоса Тип A & D (JEM,JEC)