Главная
Продукция
Зарубежное оборудование
Вакуумное оборудование
Вакуумная испарительная установка ei-5
Продукция
- Оборудование на складе
- Нестандартное оборудование
- Оборудование для жидких процессов литографии
- Лазерное оборудование
- Вакуумное оборудование
- Сборочное оборудование
- Оборудование для оптической литографии
- Рентгеновское оборудование для контроля
- Оборудование на складе
- Сборочное оборудование и материалы
- Установки для жидких процессов литографии
- Устройства для измерения пластин и толщины пленок
- Оборудование для литографии
- Оборудование для высшей степени очистки газов
- Вакуумное оборудование
- Автоматы для герметизации корпусов
- Установки для изготовления и обработки подложек
- Оборудование для термических процессов
- Ионные имплантеры
- Бинокулярные и стереоскопические микроскопы
- Аппараты для атомно-слоевого осаждения
- Промышленные компрессоры
- Газовые системы
Российское оборудование
Зарубежное оборудование
Вакуумная испарительная установка ei-5
Отправить заявку
Испарительная установка
Это системы высокого вакуумного испарения пакетного типа для осаждения металла и оксида на подложке. В панели управления этой системы имеется встроенная функция контроля, которая реализует автоматизированный вакуум и процесс осаждения, рекомендуется для R&D применений, а также для мелкосерийного производства.
- Малая занимаемая площадь
- Простота инсталляции и эксплуатации
- Простое управление и высокая производительность
- Простота обслуживания
Характеристики:
- Поддержка различных источников испарения (EB, RH, EB + RH и т.д.).
- Держатели подложек соответствующие каждому процессу (планетарные, спутниковые и т.д.).
- Обработка различных подложек; размеры подложек от 2 до 6 дюймов, прямоугольные подложки, Si, соединений, стекла и керамики.
- Отображение и управление на сенсорном ЖК-мониторе
- Улучшенная система управления и функционалом (рецепты, регистрация данных, функция сервисной помощи).
Применение:
- Силовые приборы
- LED, LD и высокоскоростные устройства
- Различные R & D
- Другие общие электронные устройства
Типы держателей
Тип |
Размер, мм |
Типы держателя |
2” |
3” |
4” |
5” |
6” |
8” |
|
Ei-501 |
Планетарный |
D550/R395 |
Плита |
213 |
108 |
60 |
39 |
24 |
|
Вставка |
204 |
105 |
57 |
39 |
24 |
15 |
|||
Вращательный |
D700/R700 |
Плита |
|||||||
Вставка |
93 |
38 |
26 |
9 |
Планетарный Вращательный


Спецификация и опции.
Спецификация
Источник испарения (ЕВ источник)
Для металлов
|
40cc × 4pockets ( EGL-35M ) : 10kW P/S
40cc × 6pockets ( EGL-406M ) : 10kW P/S
110cc × 4pockets ( EGL-80M ) : 16kW P/S
110cc × 1pockets ( EGL-110M ) : 16kW P/S etc.
|
Для оксидов
|
40cc × 4pockets ( EGO-40M ): 10kW P/S
|
Опции.
Типы газов
|
Ar, O2
|
Источник испарения
|
2 электронные пушки
|
Ионная пушка
|
Mark 1 (производство Veeco)
|
Спецификация.
Подложки
Материал
Размер
|
Si, GaAs, GaN, Стекло, керамика и др.
d50 – 200мм, другие различные формы
|
2. Вакуумная система
Главный насос
Предельное давление
Время откачки
|
Крионасос
3.0×10-5 Па или лучше
В течение 20min to 3.0×10-4 Па
|
3. Напыление
Источник испарения
Держатель подложек
Однородность плёнки по толщине
SS расстояние
|
Электронная пушка (10кВт), R/H / Source shutter
Вращательный / Планетарный
d50 - 200mm. ±5% или лучше
680мм
|
4. Нагрев подложек
|
Инфракрасная лампа нагрева. Tmax = 350 0C
|
5. Управление
|
Сенсорная панель управления PC & PLC
|
6. Подключение
Электричество
Водяное охлаждение
Воздух
N2 газ
Заземление
|
AC200V, d3, 50/60 Hz, 50~60kVA
27 л/мин
0.4 ~0.7 MПa(с регулятором)
0.05~0.15 MПa для VENT регенерации крионасоса
Тип A & D (JEM,JEC)
|