Продукция
- Оборудование на складе
- Нестандартное оборудование
- Оборудование для жидких процессов литографии
- Лазерное оборудование
- Вакуумное оборудование
- Сборочное оборудование
- Оборудование для оптической литографии
- Оборудование на складе
- Сборочное оборудование и материалы
- Установки для жидких процессов литографии
- Устройства для измерения пластин и толщины пленок
- Оборудование для литографии
- Оборудование для высшей степени очистки газов
- Вакуумное оборудование
- Автоматы для герметизации корпусов
- Установки для изготовления и обработки подложек
- Оборудование для термических процессов
- Ионные имплантеры
- Бинокулярные и стереоскопические микроскопы
- Аппараты для атомно-слоевого осаждения
- Промышленные компрессоры
- Газовые системы
Российское оборудование
Зарубежное оборудование
Вакуумное оборудование зарубежного производства

Вакуумная установка PlasmaPro-100PECVD
Назначение:Установка с планарным реактором для низкотемпературного нанесения диэлектрических пленок высокого качества и контролируемым знаком и уровнем внутренних напряжений. Производитель оборудования - Oxford Instruments Plasma Technology.

Вакуумная испарительная установка ei-5
Назначение:Установка электронно-лучевого распыления модель ei-5 (ULVAC, INC., Япония) для массового полупроводникового производства.

Вакуумная установка NE-550
Назначение:Система ионно-химического травления NE-550 (ULVAC, INC., Япония) для массового полупроводникового производства.

Вакуумная система распыления SIH-300RD
Назначение:Система напыления металлических пленок SIH-300RD (ULVAC, INC., Япония) для массового полупроводникового производства.

Установка Polyteknik двустороннего магнетронного напыления Discovery 501 Dual Side
Назначение:Мелкосерийное производство с использованием метода осаждения сложных многослойных структур. Производитель оборудования - Polyteknik AS, Дания.

Установка Polyteknik электро-лучевого распыления Explorer 500 GLAD
Назначение:Получение наноструктур с контролируемыми свойствами и параметрами, с использованием метода осаждения под скользящим углом. Производитель оборудования - Polyteknik AS, Дания.

Установка Polyteknik электронно-лучевого распыления EXPLORER 700
Назначение:Получение сплавных слоев из высокочистых материалов совместным осаждением испаряемого материала от двух электронно-лучевых источников. Производитель оборудования - Polyteknik AS, Дания.

Системы Polyteknik Infinity «С рулона на рулон»
Назначение:Производитель оборудования - Polyteknik AS, Дания.
Установки для вакуумного напыления пленок
Развитие высоких технологий и электронной техники напрямую зависит от усовершенствования вакуумных процессов, по этой причине именно вакуумные установки вызывают особенный интерес в сферах микроэлектроники и нанотехнологий. Покрытия, которые наносятся с их помощью, бывают однослойными или же комбинированными на основе любых металлов и соединений металлов (нитриты, оксиды, карбиды). Установки для нанесения напылений различаются между собой технологиями производства. Итак, существуют следующие методики:
- электродуговое напыление;
- магнетронное распыление;
- ионно-плазменное напыление;
- термовакуумное напыление;
- термическое испарение.
Вакуумные технологии имеют гибкое применение и позволяют осуществлять замену дефицитных или дорогостоящих материалов на более доступные, пригодны для полной автоматизации и обеспечивают высокое качество материалов покрытий.
Новые возможности напыления
Напыление — сложный, но, с технологической точки зрения, очень интересный процесс, который представляет собой равномерное осаждение по металлу или иной поверхности изделия тончайшего слоя заданного вещества. Преследуемая цель – придание изделию дополнительной прочности, электропроводности, износоустойчивости или красивого внешнего вида. Напыление металлов осуществляют, используя такие вакуумные технологии как:
- магнетронные,
- ионно-пучковые,
- электронно-лучевые,
- газоразрядные распылительные,
- термические методы.
Электронно-лучевое напыление
Электронно-лучевое напыление (металлизация) представляет собой метод нанесения слоев исходного металла в тигле и испаряет его в вакуум. Затем пары металла осаждаются на целевой поверхности. Метод электронно-лучевого испарения позволяет наносить практически любые металлы, поскольку не требует расплавления всего объема исходного металла, как при резистивном нагреве.
Плазмохимическое и ионно-химическое травление
В нашей компании вы также можете приобрести установки для плазмохимического и ионно-химического травления.
Плазмохимическое травление — химическая реакция между химически активными частицами и поверхностными атомами материала.
Ионно-химическое травление — физико-химический процесс, происходящий при низком давлении газов и значительной энергии бомбардирующих поверхность положительных ионов. Поверхностный слой удаляется при помощи физического распыления ионами, а также в результате продуктов химической реакции между активными частицами и поверхностными атомами. Все установки соответствуют стандартам качества, удобны и просты в эксплуатации.
Купить оборудование для нанесения покрытий при производстве полупроводников и проводников, представленное в этом разделе, можно в компании «ЭСТО». О ценах и условиях поставки продукции спрашивайте у наших менеджеров.