Продукция
- Нестандартное оборудование
- Оборудование для жидких процессов литографии
- Лазерное оборудование
- Вакуумное оборудование
- Сборочное оборудование
- Оборудование для оптической литографии
- Сборочное оборудование и материалы
- Установки для жидких процессов литографии
- Устройства для измерения пластин и толщины пленок
- Оборудование для оптической литографии
- Оборудование для высшей степени очистки газов
- Вакуумное оборудование
- Автоматы для герметизации корпусов
- Установки для изготовления и обработки подложек
- Оборудование для термических процессов
- Ионные имплантеры
- Бинокулярные и стереоскопические микроскопы
- ВЧ-генераторы
- Аппараты для атомно-слоевого осаждения
- Промышленные компрессоры
Российское оборудование
Зарубежное оборудование
Установки для жидких процессов литографии
Установка Easyline S 200 TT с открытой чашей
Назначение:Система предназначена для нанесения, отмывки, сушки и проявления фоторезиста. Производитель оборудования - Solar-semi GmbH.
Установка Quickstep 200 SM с открытой чашей и встроенной печкой
Назначение:Система предназначена для нанесения, отмывки, сушки и проявления фоторезиста. Производитель оборудования - Solar-semi GmbH.
Установка для нанесения/проявления фоторезиста Quickstep S 200 SMS
Назначение:Отдельно стоящая установка для нанесения/проявления фоторезиста с открытой чашей методом центрифугирования для пластин до 8” (200mm) и подложек до 6” x 6” (150 x 150mm). Производитель оборудования - Solar-semi GmbH.
Установка нанесения и проявления Microcluster Cabinet MC 204
Назначение:Автоматическая система для нанесения фоторезистивных пленок методом центрифугирования и проявления пленок, сушка с помощью горячих плит для пластин диаметром до 300 мм или подложек размером 150х150 мм. Производитель оборудования - Solar-semi GmbH.
Автоматы для нанесения фоторезиста
Фоторезист относится к полимерным материалам, обладающим высокой светочувствительностью. Фоторезист наносится на пластину равномерным тонким слоем методом центрифугирования. Данный способ получения слоя заданной толщины относится к наиболее распространенным, но для литографии на подложках с уже произведенной топологией обычно применяют аэрозольный способ нанесения. Существуют также установки для нанесения твердого фоторезиста.
Чтобы избавиться от излишков растворителя, фоторезист необходимо просушить. Сушка производится в заданном для конкретного изделия режиме, обеспечивающем качественную литографию без дефектов.
Важнейшим этапом литографии принято считать проявление изображения. Оборудование для нанесения фоторезистов вы можете купить в компании «ЭСТО». О ценах и условиях поставки спрашивайте у наших менеджеров.
