Главная Продукция Зарубежное оборудование Установки для жидких процессов литографии

Продукция

Российское оборудование

Зарубежное оборудование

Каталог оборудования АО «НПП «ЭСТО»

Каталог продукции Fujikin

Презентация оборудования KLOE

Установки для жидких процессов литографии

Установка Easyline S 200 TT с открытой чашей

Назначение:

Система предназначена для нанесения, отмывки, сушки и проявления фоторезиста. Производитель оборудования - Solar-semi GmbH.

Установка Quickstep 200 SM с открытой чашей и встроенной печкой

Назначение:

Установка для нанесения/проявления фоторезиста Quickstep S 200 SMS

Назначение:

Отдельно стоящая установка для нанесения/проявления фоторезиста с открытой чашей методом центрифугирования для пластин до 8” (200mm) и подложек до 6” x 6” (150 x 150mm). Производитель оборудования - Solar-semi GmbH.

Установка нанесения и проявления Microcluster Cabinet MC 204

Назначение:

Автоматическая система для нанесения фоторезистивных пленок методом центрифугирования и проявления пленок, сушка с помощью горячих плит для пластин диаметром до 300 мм или подложек размером 150х150 мм. Производитель оборудования - Solar-semi GmbH.

Автоматы для нанесения фоторезиста

Фоторезист относится к полимерным материалам, обладающим высокой светочувствительностью. Фоторезист наносится на пластину равномерным тонким слоем методом центрифугирования. Данный способ получения слоя заданной толщины относится к наиболее распространенным, но для литографии на подложках с уже произведенной топологией обычно применяют аэрозольный способ нанесения. Существуют также установки для нанесения твердого фоторезиста.

Чтобы избавиться от излишков растворителя, фоторезист необходимо просушить. Сушка производится в заданном для конкретного изделия режиме, обеспечивающем качественную литографию без дефектов.

Важнейшим этапом литографии принято считать проявление изображения. Оборудование для нанесения фоторезистов вы можете купить в компании «ЭСТО». О ценах и условиях поставки спрашивайте у наших менеджеров.