ИНЖЕНЕРЫ
ДЛЯ ИНЖЕНЕРОВ

Россия, 124460, Москва, Зеленоград,
просп. Георгиевский, д. 5, строен. 1
пн., пт.: с 9:00 до 18:00

+7 (499) 729-77-51 +7 (495) 981-91-69 +7 (499) 479 77 24

Для оптической литографии

UC320-12

UC320-12

Назначение:

установка для нанесения фоторезиста спреем

Установка Easyline S 200 TT с открытой чашей

Установка Easyline S 200 TT с открытой чашей

Назначение:

Система предназначена для сушки и отмывки пластин и нанесения фоторезиста способом вращения. Подходит для пластин диаметром до Ø 8” (Ø 200 мм) и подложек размером до 6” x 6” (150 мм x 150 мм). Производитель оборудования - Solar-semi GmbH.

Установка для оптической литографии ELS106SA

Установка для оптической литографии ELS106SA

Назначение:

Полуавтоматическая установка совмещения и экспонирования

Установка Quickstep 200 SM с открытой чашей и встроенной печкой

Установка Quickstep 200 SM с открытой чашей и встроенной печкой

Назначение:

Система нанесения Quickstep 200 SM предназначена для пластин диаметром до Ø 12” (Ø 300 мм) подложек размером до 9”x 9” (225 x 225 мм) для традиционного нанесения с открытой чашей. Производитель оборудования - Solar-semi GmbH.

Установка для оптической литографии ELS106FA

Установка для оптической литографии ELS106FA

Назначение:

Автоматическая система совмещения и экспонирования

Установка для нанесения/проявления фоторезиста Quickstep S 200 SMS

Установка для нанесения/проявления фоторезиста Quickstep S 200 SMS

Назначение:

Отдельно стоящая установка для нанесения/проявления фоторезиста с открытой чашей методом центрифугирования для пластин до 8” (200mm) и подложек до 6” x 6” (150 x 150mm). Производитель оборудования - Solar-semi GmbH.

Система лазерной литографии Dilase 250

Система лазерной литографии Dilase 250

Назначение:

настольная система лазерной литографии с высоким разрешением, предназначена для быстрого прототипирования масок и шаблонов в промышленности и R & D центрах.

Установка нанесения и проявления  Microcluster Cabinet MC 204

Установка нанесения и проявления Microcluster Cabinet MC 204

Назначение:

Автоматическая система для нанесения фоторезистивных пленок методом центрифугирования и проявления пленок, сушка с помощью горячих плит для пластин диаметром до 300 мм или подложек размером 150х150 мм. Производитель оборудования - Solar-semi GmbH.

Оборудование для лазерной литографии

Технология лазерной литографии применяется для формирования топологических структур в слое фоторезиста на поверхности подложки. Используется на стекле, металлизированных пластинах, плёнках, фотоустойчивых покрытиях и пластинах кремния. Метод применяется в процессе изготовления фотошаблонов и интегральных схем.

Установки для лазерной литографии

Технология лазерной литографии позволяет добиться разрешения в десятки нанометров. Установки применяются в лабораторных исследованиях и для полутонового экспонирования. В нашем ассортименте имеются установки для высокоскоростной безмасковой литографии, которые позволяют добиться прекрасного результата.

Ваша заявка принята!