ИНЖЕНЕРЫ
ДЛЯ ИНЖЕНЕРОВ

Россия, 124460, Москва, Зеленоград,
просп. Георгиевский, д. 5, строен. 1

+7 (499) 479 12 39 +7 (499) 479 12 39 +7 (499) 479 77 24

Продукция «НПП «ЭСТО» / Для оптической литографии

Отправить заявку

ЭМ-576АМЭС

ОБЩЕЕ ОПИСАНИЕ.
Установка предназначена для совмещения изображений на фотошаблоне и полупроводниковой пластине и переноса изображения с фотошаблона на пластину экспонированием фоторезистивного слоя при фотолитографических процессах.
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
ОСНОВНЫЕ ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ.
Разрешение оптической системы
2,0 мкм
Погрешность предварительной ориентации и переноса пластин в зону совмещения, не более
0,3 мм
Погрешность совмещения элементов изображений на фотошаблоне и полупроводниковой пластине
0,5 мкм
Размеры обрабатываемых подложек
48х60, 24х30, 48х30 мм
Обеспечивается возможность работы с подложками прямоугольной формы с максимальным размером диагонали до 100мм
Толщина подложек
0,1 – 2 мм
Размеры применяемых фотошаблонов
102 х 102 мм, 127 х 127 мм
Габаритные размеры  (ДхШхВ):
1192х1000х 1570 мм
Масса:
400 кг
Электропитание:
220 В, 50 Гц
Потребляемая мощность
1,2 кВт
Условия эксплуатации:
- температура окружающей среды,
- относительная влажность,
- атмосферное давление
 
10-350С
20-80% при 35 0С
84,0-106,7кПа
Потребление энергоносителей:
- холодная вода, не более
- сжатый воздух, не менее
- вакуум, не хуже
 
200 л/ч
3,0-6,0 атм
5х104 Па
Диаметр слива охлаждающей воды
40 мм
Обеспечивается возможность автоматической подачи пластин диаметром 76 и 100 мм, 48х60 мм из кассеты в зону экспонирования, автоматическая ориентация по базовому срезу, калибровка. После проведения процесса пластина автоматически выгружается в кассету.

 


Ваша заявка принята!