Продукция
- Нестандартное оборудование
- Оборудование для жидких процессов литографии
- Лазерное оборудование
- Вакуумное оборудование
- Сборочное оборудование
- Оборудование для оптической литографии
- Сборочное оборудование и материалы
- Установки для жидких процессов литографии
- Устройства для измерения пластин и толщины пленок
- Оборудование для оптической литографии
- Оборудование для высшей степени очистки газов
- Вакуумное оборудование
- Автоматы для герметизации корпусов
- Установки для изготовления и обработки подложек
- Оборудование для термических процессов
- Ионные имплантеры
- Бинокулярные и стереоскопические микроскопы
- ВЧ-генераторы
- Аппараты для атомно-слоевого осаждения
- Промышленные компрессоры
- Газовые системы
Российское оборудование
Зарубежное оборудование
ALD система PICOSUN R-200
Оборудование PICOSUN для АСО.
R-серия обладает уникальным дизайном двойной камеры с горячими стенками и верхней подачей прекурсоров, что обеспечивает напыление АСО пленок высочайшего качества с превосходной однородностью даже на самых сложных структурах, таких как образцы со сквозными порами, углубления со сверхвысоким соотношением геометрических размеров или порошки наночастиц. Наши высокофункциональные и легкосменные источники прекурсоров для жидких, газообразных и твердотельных химикатов обеспечивают беспримесные технологические процессы для широкого спектра материалов на подложках, трехмерных объектах и образцах, обладающих наноразмерными особенностями.
Превосходная однородность пленок получена с помощью технологических процессов АСО и плазмостимулированного АСО (ПАСО) на инструментах Picosun. Размер подложек 6 дюймов (150 мм), усреднение по 49 точкам.
|
Материал |
Неоднородность (1σ) |
Одиночный (О)
/ пакетный (П)
процесс |
|
AI2O3 |
0.13 % |
П |
|
SiO2 |
0.77 % |
П |
|
TiO2 |
0.28 % |
О |
|
ZnO |
0.94 % |
О |
|
Ta2O5 |
1.0 % |
О |
|
HfO2 |
1.83 % |
О |
|
Pt |
3.41 % |
О |
|
TiN |
1.10 % |
О |
Установка для АСО плёнок PICOSUN R-200 Standard
Технические характеристики:
|
Основные характеристики |
|
|
Тип и размер подложки |
50 – 200-мм одиночные подложки |
|
Рабочая температура |
50 – 500 °C, более высокие – по требованию |
|
Возможные варианты загрузки образцов в реакционную камеру |
Пневматический подъемник (ручная загрузка)
Загрузочный шлюз с магнитным манипулятором |
|
Прекурсоры
|
Жидкие, твердотельные, газообразные, озон |
|
Вес и размеры |
|
|
Вес |
350 кг |
|
Размеры (Ш x В x Г) |
Зависит от дополнительного оборудования |
|
Вспомогательные системы |
|
|
Источник питания |
200-240 VAC, однофазное, 50/60 Гц |
|
Вакуумный насос |
Рекомендация мин. 100 – 420 м3/час, механическая ловушка частиц и дожигатель включены |
|
Несущий газ |
99.999 % N2 / Ar, мин 2 стд.л/мин |
|
Сжатый сухой воздух |
4 – 5.5 бар избыточного давления |
|
Охлаждающая вода |
Требуется только для безмасляного вакуумного насоса, не требуется для реактора |
|
Выхлоп |
Необходим для вакуумного насоса и корпуса инструмента |
|
Дополнительное оборудование |
|
|
Устройство PICOFLOW™ для улучшения диффузии, кварцевый кристаллический микробаланс (QCM), анализатор остаточных газов (RGA), генератор N2, газоочистное устройство, разработка дизайна инструмента по требованию заказчика, совместимость с перчаточным ящиком для загрузки образцов из инертной среды |
|
Установка для АСО плёнок PICOSUN R-200 Advanced
Технические характеристики:
|
Основные характеристики |
|
|
Тип и размер подложки |
50 – 200-мм одиночные подложки |
|
Рабочая температура |
50 – 500 °C, более высокие – по требованию |
|
Возможные варианты загрузки образцов в реакционную камеру |
Пневматический подъемник (ручная загрузка) |
|
Прекурсоры
|
Жидкие, твердотельные, |
|
Вес и размеры |
|
|
Вес |
350 + 200 кг |
|
Размеры (Ш x В x Г) |
Зависит от дополнительного оборудования |
|
Вспомогательные системы |
|
|
Источник питания |
400 VAC, трёхфазное с нейтралью или 200-210 V трёхфазное, 50/60 Гц |
|
Вакуумный насос |
Рекомендация мин. 100 – 420 м3/час, механическая ловушка частиц и дожигатель включены |
|
Несущий газ |
99.999 % N2 / Ar, мин 2 стд.л/мин |
|
Сжатый сухой воздух |
4 – 5.5 бар избыточного давления |
|
Охлаждающая вода |
Требуется только для безмасляного вакуумного насоса, не требуется для реактора |
|
Выхлоп |
Необходим для вакуумного насоса, шкафов с источниками |
|
Дополнительное оборудование |
|
|
Устройство PICOFLOW™ для улучшения диффузии, кварцевый кристаллический микробаланс (QCM), анализатор остаточных газов (RGA), генератор N2, газоочистное устройство, разработка дизайна инструмента по требованию заказчика, совместимость с перчаточным ящиком для загрузки образцов из инертной среды |
|
