ИНЖЕНЕРЫ
ДЛЯ ИНЖЕНЕРОВ

Россия, 124460, Москва, Зеленоград,
просп. Георгиевский, д. 5, строен. 1

+7 (499) 479 12 39 +7 (499) 479 12 39 +7 (499) 479 77 24

Продукция «НПП «ЭСТО» / Вакуумное оборудование

Отправить заявку

Caroline D12B2

НАЗНАЧЕНИЕ:
 
Вакуумно-технологические автоматизированные установки Caroline D12B2 и Caroline D12B3 предназначены для двустороннего магнетронного напыления на керамические, кремниевые и любые плоские (толщина не более 30 мм.) подложки размером до Ø150 мм. (максимальная плоскость обрабатываемых деталей 150×350 мм.)
 
Существенным отличием установки Caroline D12B3 является сложная дверь (с двумя нагревателями и ионным источником), которая дает возможность установки 8-ми магнетронов, тогда как в установку Caroline D12B2 может быть установлено максимум 7 магнетронов.
 
Установка комплектуется магнетронами для распыления любых материалов, например, резистивные сплавы Cu, Cr, Ni, Al и т.п.
 
УСТАНОВКА ОБЕСПЕЧИВАЕТ:
 
  • очистку поверхности изделий перед напылением с целью улучшения адгезии напыляемых слоев с помощью ионного источника постоянного тока (при необходимости два ионных источника изнутри и снаружи барабана);
  • нагрев изделий до заданной температуры, контроль и поддержание температуры в процессе напыления слоев;
  • стабилизацию заданного расхода технологических газов по трем каналам и контроль расхода газа по каждому каналу;
  • отпыливание мишени любого из одного - восьми магнетронов на управляемую заслонку;
  • вертикальное расположение мишеней на магнетронах и изделий на вращающемся барабане;
  • автоматическое выполнение цикла откачки рабочей камеры от атмосферы до стартового вакуума;
  • автоматическое окончание цикла очистки изделий по заданному времени;
  • контроль и автоматическое окончание напыления ре­зи­с­тивных и металлических пленок по заданному времени или по заданному сопротивлению свидетеля;
  • размещение изделий на легко снимаемых с барабана носителях с целью сокращения времени загрузки и выгрузки.
Вакуумная камера установки снабжена прямоугольной дверью большого размера для удобства загрузки-выгрузки носителей. Для обслуживания камеры она поднимается над плитой-основанием с помощью гидроподъемника.
 
Установка в предельном варианте комплектации имеет два комплекта блоков питания магнетрона и ионного источника и блок подачи смещения на барабан-подложкодержатель.
 
Возможно размещение нестандартных узлов нанесения или травления пленок, дополнительных нагревателей, измерителей и т.д., если позволяют габариты камеры.
 
Возможно применение планетарного механизма вращения цилиндрических подложек (ось вращения вертикальная) с диаметром изделий до 100 мм.
 
УСЛОВИЯ ЭКСПЛУАТАЦИИ:
 
Установка предназначена для работы при температуре +15°С÷30 °С относительно влажности 65 ±15%, атмосферном давлении 9,9×104 Па (750 ±30мм.рт.ст.).
 
Питание установки осуществляется от трехфазной четырехпроводной сети с нулевым проводом переменного тока напряжением 380 В ±10%, частотой 50 Гц. Максимальный потребляемый установкой ток по фазам не более 50 А.
 
Установка обеспечивает работу при подаче в нее:
 
  • холодной воды с температурой 5°С÷20°С под давлением (4÷5 кгс/см2) с расходом 0,6 м3/час;
  • кислорода газообразного под давлением 1÷1,5 кг/см2, аргона газообразного марки «особо чистый» под давлением 1÷1,5 кг/см2, азота газообразного марки «особо чистый» под давлением 1÷1,5 кг/см2.
Необходимо подвести к установке линию слива охлаждающей воды диаметром не менее 20 мм.
 
Реализована автономная замкнутая система водоснабжения с температурой выше точки росы при любых режимах эксплуатации и охлаждением от оборотной воды предприятия
 
Установка поставляется с автоматизированной управляющей и тестовой технологической программами либо на лабораторной базе Исполнителя под технологию Заказчика может быть произведена отработка технологии с последующим переносом её на заказанную установку .
 
На установке реализованы следующие технологии:
 
  • напыление РС-3710 с поверхностным сопротивлением 20÷1000 Ом/□ и более;
  • напыление нитрида тантала с поверхностным сопротивлением 20÷150 Ом/□ и ТКС менее 5×10-5;
  • напыление толстых (до 15 мкм.и более) слоев металла;
  • напыление последовательных слоев РС и металла в одном цикле;
  • напыление двуокиси и нитрида кремния из кремниевой мишени. 
 
Установка поставляется с автоматизированной управляющей и тестовой технологической программами либо на лабораторной базе Исполнителя под технолгию Заказчика может быть произведена отработка технологии с последующим переносом ее на заказанную установку.
Ваша заявка принята!